硅材料光解水制氫機(jī)理揭曉

　　近日，中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)教授熊宇杰課題組首次揭示了硅納米線表面光解水制氫的機(jī)理，為提高制氫性能提供了新途徑。該研究成果發(fā)表于新一期的《德國應(yīng)用化學(xué)》，并被選為該期刊的熱點(diǎn)論文。

　　眾所周知，氫氣是一種非常清潔且可儲存運(yùn)輸?shù)目稍偕茉?，利用太陽能分解水制備氫氣已成為一種備受關(guān)注的清潔新能源技術(shù)。半導(dǎo)體催化劑在光解水制氫過程中扮演著非常重要的角色，硅材料作為地球上豐度最高且應(yīng)用最為廣泛的半導(dǎo)體材料，早已有報(bào)道預(yù)言可用于光解水制氫技術(shù)。

　　研究人員將微納制造技術(shù)（即自上而下）和濕化學(xué)方法（即自下而上）巧妙地結(jié)合在一起，可高選擇性地調(diào)控硅納米線陣列的表面懸鍵類型和數(shù)量?；谙到y(tǒng)紅外光譜監(jiān)測，研究團(tuán)隊(duì)將光催化產(chǎn)氫效率及激子平均壽命與表面懸鍵聯(lián)系起來，從而凸顯了硅材料表面懸鍵在光催化應(yīng)用中的關(guān)鍵作用。另一方面，研究人員發(fā)現(xiàn)該過程產(chǎn)生的氫氣和氧氣的比例遠(yuǎn)高于常規(guī)思維中的化學(xué)計(jì)量比，因此與傳統(tǒng)的光催化產(chǎn)氫機(jī)制應(yīng)該有所差異?；谠撓盗邪l(fā)現(xiàn)，研究團(tuán)隊(duì)首次撥開了硅材料光解水制氫機(jī)制的“面紗”，確定了其反應(yīng)機(jī)制。在理解作用機(jī)制之后，研究人員開發(fā)出了一類基于常規(guī)半導(dǎo)體工業(yè)技術(shù)的表面化學(xué)處理方法，為調(diào)控位于硅納米線表面的懸鍵狀態(tài)提供了簡捷途徑，得以理性地調(diào)變其光催化制氫性能。

　　該研究工作提出了新的表面工程思路，為開發(fā)高效、自然界豐富的光催化劑鋪筑道路，對高效催化劑的理性設(shè)計(jì)具有重要推動作用。