作為半導體制造流程中的重要環(huán)節(jié),刻蝕工藝與化學氣相沉積(CVD)工藝不僅決定了器件的結(jié)構(gòu)與特性,還確保了制造過程的可控性和重復性,從而保障產(chǎn)品的一致性和良品率。
隨著半導體行業(yè)新材料、新技術(shù)的不斷更新迭代,如何滿足更高的制造工藝標準,成為了半導體制造商獲得市場競爭力的關(guān)鍵。
為了應(yīng)對新的挑戰(zhàn),艾默生全新上市TESCOM™ 10-X系列調(diào)壓閥,滿足高精度氣體壓力控制的需求,為蝕刻和化學氣相沉積(CVD)工藝保駕護航。
TESCOM™ 10-X系列調(diào)壓閥
高精度流體控制大師
在追求高精度與超高純度的半導體領(lǐng)域里,每一個細節(jié)都至關(guān)重要。艾默生作為嚴謹苛刻的“技術(shù)細節(jié)控”,全新上市的TESCOM™ 10-X系列調(diào)壓閥究竟有何獨到之處,滿足微型元件的嚴苛工藝標準?
在這些特質(zhì)的加持下,TESCOM™ 10-X系列調(diào)壓閥能夠在嚴苛環(huán)境中保持穩(wěn)定工作,成為了半導體制造的蝕刻和CVD工藝的理想選擇。
TESCOM™ 10-X系列調(diào)壓閥工作參數(shù)
密封類型 |
自由閥芯 | ||||
入口壓力 |
150 PSIG | ||||
出口壓力 |
3 ~ 30、3 ~ 60 PSIG | ||||
流量 |
Cv 值 = 0.06/0.1 | ||||
工作溫度 |
-40℃ ~ 60℃ | ||||
閥體材料 |
316L VAR不銹鋼 | ||||
隔膜材料 |
Hastelloy® C-22 | ||||
閥座材料 |
聚三氟氯乙烯 (PCTFE) 或聚四氟乙烯 (PTFE) |
在半導體制造的精密舞臺上,艾默生TESCOM™ 10-X系列調(diào)壓閥以其穩(wěn)定的性能和對細節(jié)的執(zhí)著,支撐著每一次工藝的精進。它的推出,是對技術(shù)純粹追求的滿分詮釋,也是對半導體行業(yè)不斷前行的有力見證。
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