半導體真空磁控濺射儀器

半導體真空磁控濺射儀器的簡單介紹

半導體真空磁控濺射儀器的詳細信息

鄭州科探儀器設備是高質量定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設計者和制造商，客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設計以滿足客戶的特殊要求。

鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述：

半導體真空磁控濺射儀器，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。

產(chǎn)品特點：

• 彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速

• 通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線；歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

• 可控鍍膜速率，可得到更精細的晶粒結構

• 可手動或自動，根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射

• 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。

半導體真空磁控濺射儀器技術參數(shù)；

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