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公司所在地:河南鄭州

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詳細信息

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀的簡單介紹

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節(jié),及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀的詳細信息

小型濺射儀

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節(jié),及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

設備名稱

小型濺射儀

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

工作電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V 電流≤500mA

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤10Pa

擋板類型

電控

真空腔室

玻璃罩+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ82 (可安裝φ70基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

水冷接口

有(配備自循環(huán)水冷機)


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